Applied Materials внедряет в свое производство технологию ExtractAI, в которой используется комбинация оптических инструментов Enlight, системы анализа дефектов SEMVision G6/G7 и глубокого обучения. Она позволяет быстро и на ранних стадиях найти недостатки при проектировании кристаллов микросхем.
![](https://habrastorage.org/getpro/habr/upload_files/457/482/cb6/457482cb65afdc7da95a8d00a2cc81ca.jpg)
Применяемые обычно инструменты оптического контроля не позволяют получить достаточно детальное разрешение изображения, а инструменты электронного и многолучевого контроля высокого разрешения работают относительно медленно. Новая система снижает затраты и время проверки кристалла.
По словам представителей Applied Materials, их решение позволяет не только обнаруживать и классифицировать критические дефекты, но также адаптируется к изменениям процесса в режиме реального времени.
В настоящее время на разработку усовершенствованного чипа уходят годы, а на изготовление партии — несколько месяцев. У разработчика микросхем может быть эффективная архитектура, но им важно обеспечить также быстрый выход чипов, чтобы не потерять долю рынка.
![](https://habrastorage.org/getpro/habr/upload_files/49a/0e3/a79/49a0e3a79883f834e680feacc154f725.png)
Applied Materials сообщает, что число этапов разработки кристалла увеличилось на 48% с 2015 по 2021 год. сканеры, используемые для создания микросхем, и инструменты проверки претерпели значительные изменения и стали дороже. Цена высококачественной оптической системы контроля за последние шесть лет увеличилась на 56%, что, в свою очередь, увеличило стоимость сканирования пластины на 54% за тот же период.
![](https://habrastorage.org/getpro/habr/upload_files/05a/a1f/f62/05aa1ff62fb99231ab93103bce567a6a.png)
На ранних стадиях обнаружить дефект мешают шумы, которые влияют на работу средств оптического контроля. Инженерам приходится применять определенные модели фильтрации для сокращения наборов данных, с которыми они работают.
![](https://habrastorage.org/getpro/habr/upload_files/d71/0a4/4b7/d710a44b73426851898fa1bec389ba2a.png)
Applied Materials объединила свою систему оптического контроля пластин Enlight с новой технологией ExtractAI. ПО использует глубокое обучение, чтобы попытаться лучше интерпретировать результаты оптических сканеров. Enlight делает снимок пластины с высоким разрешением и быстро создает базу данных потенциальных дефектов.
![](https://habrastorage.org/getpro/habr/upload_files/a41/8c9/2d0/a418c92d01c1c0cf2f4f998262591d8d.png)
Затем пластина отправляется в систему SEMVision G6/G7, которая отличает дефекты от шумов и классифицирует их. Изображения и данные, захваченные Enlight и SEMVision G6/G7, передаются в ExtractAI, чтобы обучить его автоматически распознавать определенные дефекты на карте пластин, созданной с помощью аппаратных систем.
![](https://habrastorage.org/getpro/habr/upload_files/309/ae2/0f9/309ae20f9b4e4e11609de62759e50d4f.png)
Как заявили в Applied Materials, этот набор инструментов уже используется на фабриках в Южной Корее, Тайване и США.
Компания приступила к разработке системы Enlight с ExtractAI в 2016 году, а ее коммерческие поставки стартовали в первом квартале 2020 года. Ожидается, что к концу первого квартала 2021 года совокупные продажи инструмента проверки превысят $400 млн.