Что нового может появиться в полупроводниковой промышленности благодаря внедрению многолучевой электронной литографии? Инновационная технология, предложенная голландской компанией Mapper Lithography медленно но верно подходит к уровню промышленного применения – не без помощи Роснано, которое владеет существенной долей компании. Что нового можно будет сделать в полупроводниковом производстве при помощи многолучевой электронной литографии? Давайте посмотрим.Введение
Последние лет пятьдесят развитие полупроводниковых технологий довольно хорошо следовало так называемому «закону Мура», который был сформулирован Гордоном Муром в 1965-ом: «количество транзисторов, размещаемых на кристалле интегральной схемы, удваивается каждые 24 месяца». Прямое следствие закона Мура – уменьшение критических размеров (critical dimensions – CD) транзисторов, по ним называются техпроцессы (technology nodes), использующиеся для изготовления интегральных схем. Со времен формулировки закона Мура до наших дней CD уменьшились в 5 000 раз: с 50 мкм до 10 нм. Хотя смерть закону Мура предрекают уже довольно давно (где-то начиная с 90 нм), до сих пор уменьшение размеров продолжается. С другой стороны, очевидно, что бесконечно так продолжаться не может – наступит физический предел – размеры атомов конечны.
Тем не менее, движение в сторону уменьшения размеров продолжается (часто это называют more Moore). Так как критическим процессом полупроводниковой технологии является литография, то именно там сосредоточены основные усилия по уменьшению размеров, ярким примером является машина Экстремального Ультра Фиолета ЭУФ (Extreme Ultra Violet – EUV), разработку которой ведет флагман фотолитографии, голландская компания ASML. Длина волны этой технологии составляет 13.5 нм (тогда как длина волны современных фотолитографических машин составляет 193 нм), что позволит печатать CD для технологий менее 45 нм напрямую (на данный момент для таких технологий используется мультипаттернинг, включающий в себя несколько операций литографии и травления).
Другой подход заключается в отступлении от простого уменьшения размеров и добавления различных новых технологий в стандартный техпроцесс (это обычно называют more than Moore). Примером таких технологий являются новые материалы (например диэлектрики с низкой либо высокой диэлектрической проницаемостью вместо оксида кремния, медь вместо алюминия, германий вместо кремния и т.д.); новая архитектура транзисторов (напряженные каналы, трехмерные затворы и т.д.); новые системные решения (многоядерные процессоры, совмещение математического и графического процессоров на одном кристалле и т.д.).
Если технология EUV от ASML является очевидным примером следования закону Мура, то технология безмасочной электронной литографии от другой голландской компании Mapper Lithography позволит применять ее в обоих случаях: more Moore and more than Moore. В сегодняшней статье не будем останавливаться на преимуществах высокого разрешения электронной литографии (которая является лежащим на поверхности преимуществом по сравнению с оптической), а порассуждаем о том, что эта технология может принести инновационного в процесс производства интегральных схем.
Что позволит производить многолучевая электронная литография
Сама по себе электронная литография хорошо известна и не является чем-то особенным, она широко используется, например, при производстве масок для фотолитографии. Основным недостатком электронной литографии является удручающе медленная скорость работы – чтобы экспонировать 300 мм пластину, понадобится около месяца. Это не приемлемо для производства, где обычная фотолитография экспонирует пластины с производительностью более сотни в час.
300 мм пластина после экспонирования на машине Mapper Lithography и проявки.
Многолучевая электронная литография использует 13 000 электронных лучей одновременно, каждый луч контролируется индивидуально, плюс он еще разбит на 49 сублучей. Используя 13 000 лучей можно печатать около 10 пластин диаметром 300 мм в час. Стимость такой машины будет в 2-3 раза меньше чем современной установки фотолитографии (сканера на 193 нм с водяной прослойкой).
Основным преимуществом многолучевой электронной литографии является отсутствие масок – рисунок на полупроводниковую пластину переносится напрямую с компьютера. Если классическую фотолитографию можно сравнить с пленочной фотографией – печать большого количества отпечатков с одного негатива, то многолучевую электронную литографию можно сравнить с цифровой фотографией – печать отпечатков напрямую с компьютера на струйном принтере. В первом случае получаем высокую производительность при низкой вариативности (легко воспроизвести множество отпечатков, но сложно изменить негатив), во втором случае получаем более низкую производительность, но высокую вариативность (подправить файл на компьютере труда не составит). Еще одной хорошей аналогией служит отливка в формы и печать на 3D принтере.
Линии с полупериодом 42 нм после электронной литографии и травления. Для получения такой же структуры с применением классической фотолитографии потребуется несколько операций экспонирования/травления
Стоит отметить, что ключевые элементы машины – электронные линзы – производятся в России на небольшой МЭМС-фабрике, построенной специально для этих целей при поддержке Роснано.
Учитывая, что изготовление масок (фотошаблонов) для современных технологий ( ~20 нм) является длительным (несколько месяцев) и дорогостоящим (миллионы долларов) процессом, давайте посмотрим, где может найти применение технология безмасочной литографии.
Быстрое прототипирование новых продуктов
Как происходит разработка новых полупроводниковых продуктов на сегодняшний день? Компания, желающая выпустить на рынок новый продукт, сначала изготавливает тестовый фотошаблон с несколькими вариантами будущего продукта – это несколько месяцев и несколько миллионов долларов – изготавливает некоторое количество тестовых чипов, выбирает наилучший дизайн и заказывает уже окончательный фотошаблон по наилучшему дизайну – это еще несколько месяцев и несколько миллионов долларов.
Как может происходить разработка новых продуктов при использовании установки МЭЛ? Тестовая партия чипов с новым продуктом может содержать сотни или тысячи вариантов нового чипа, причем для ее изготовления не понадобится ни дополнительное время на ожидание изготовления фотошаблонов, ни дополнительные расходы. То есть разработка новых продуктов будет быстрее (на несколько месяцев), дешевле (на несколько миллионов долларов) и качественнее (больше вариантов нового чипа).
При изготовлении небольших серий МЭЛ может использоваться в последующем серийном производстве, при крупносерийном производстве можно заказать фотошаблон по наилучшему дизайну и печатать чипы уже с него.
Изготовление малых серий чипов
CubeSat. Источник: Wikipedia CC BY 1.0, Link
Если вы хотите изготовить какой-либо чип миллионным тиражом – нет проблем, стоимость фотошаблонов размажется на огромное количество чипов и каждый чип будет стоить не так дорого. Но если вам нужна сотня или тысяча чипов? Например, вы хотите запихнуть всю электронику наноспутника в один чип своего собственного уникального дизайна – стоимость такого чипа будет огромной, так как стоимость фотошаблона (миллионы долларов) будет разделена на небольшое количество чипов. Однако, если фотошаблон изготавливать не надо, то никто не мешает сделать небольшое количество чипов – если вся остальная технология, за исключением фотолитографии, не сильно изменяется, то и стоимость чипа особо не изменится – на 300 мм пластине один чип будет стоить от десятков до сотен долларов в зависимости от размера.
Изготовление уникальных чипов
Если изготовить малую серию уникальных чипов при помощи обычной фотолитографии хоть и очень дорого, но в принципе возможно, то сделать каждый чип уникальным уже невозможно в принципе. Для чего могут понадобиться уникальные чипы? Они могут использоваться в целях безопасности (вариативность защиты создается не на программном, а на аппаратном уровне) или в целях идентификации (уникальный чип слишком сложно подделать). Возможностью изготавливать уникальные чипы заинтересовалось довольно много клиентов, так что голландцы из Mapper Lithography создали специальный сайт.
Продление жизни устаревающих фабрик, работающих на 200 мм пластинах
200 мм фабрика. Источник: Infineon
В настоящее время большинство полупроводникового производства (около 60%) использует 300 мм пластины и соответствующее оборудование. Тем не менее, доля полупроводникового производства на 200 мм пластинах хоть и уменьшается, все еще составляет более 20%. Такие фабрики менее технологически продвинуты, чем 300 мм и обычно не могут выпускать пластины по техпроцессам менее 90 нм. Ключевым оборудованием, определяющим техпроцесс, является установка фотолитографии, которая также является и самой дорогой. В принципе, остальная 200 мм технологическая линия может потянуть и более продвинутый техпроцесс (45 нм – 65 нм), но все упирается в литографию, а ее замена на более продвинутую (это 300 мм машины) обойдется слишком дорого. В таком случае может помочь многолучевая электронная литография – стоит оборудование в несколько раз дешевле, чем современная машина фотолитографии, однако позволит выпускать пластины по более продвинутым технологиям, пусть и не очень большими сериями, что продлит жизнь устаревающим 200 мм фабрикам.
Изготовление больших светочувствительных матриц
Фотоматрица. Источник: Wikipedia By Filya1 — Own work, CC BY-SA 3.0, Link
Как известно, на качество изображения физический размер матрицы имеет большее влияние, чем количество мегапикселей. Размер матрицы определяется максимальным полем зрения фотолитографической установки (за один прием современная фотолитографическая установка печатает рисунок, соответствующий полю зрения, затем переходит на следующий участок, печатает такой же рисунок и т.д.). На сегодняшний день максимальный размер матрицы составляет примерно 20 мм х 20 мм, что соответствует полю зрения сканеров, которое вряд ли будет увеличиваться в ближайшем будущем. Справедливости ради замечу, что у ASML есть технология сшивки некольких полей сканера в один чип, но с ней все не так просто.
Так как принцип работы многолучевой электронной литографии аналогичен струйному принтеру, печатающему картинку полосу за полосой от края до края, а не фотоувеличителю, печатающему картинку целиком шаг за шагом (как у фотолитографических сканеров), размер картинки, получаемой на установке многолучевой электронной литографии ограничен только размером полупроводниковой пластины, на которую переносится рисунок (на данный момент это 300 мм, в дальнейшем может быть будет 450 мм. Но это не точно.). Таком образом, применяя многолучевую электронную литографию теоретически можно создавать фотоматрицы размером с полупроводниковую пластину (диаметром 300 мм). Понятно, что для массового потребителя это не нужно, но, например, для космических телескопов или каких-то других применений, где важно качество изображения, а размер и цена играют второстепенную роль, такие матрицы будут незаменимы и некоторые компании этой технологией сильно интересуются.
Заключение
Многолучевая электронная литография позволит открыть новую главу в полупроводниковом производстве. Она аналогична 3D печати в сравнении с литьем и цифровой фотографии + струйному принтеру в сравнении с фотографией на пленку и печати с негатива.
Я много раз слышал мнение, что многолучевая электронная литография не сможет конкурировать с классической фотолитографией (включая EUV) и Mapper Lithography не сможет конкурировать с ASML, из чего делался вывод, что МЭЛ обречена на неудачу. Если с первой частью данного утверждения я соглашусь, то со второй – нет. Если посмотреть на историю с МЭЛ и классической фотолитографией немного с другой стороны, то МЭЛ можно сравнить с вертолетом, а классическую фотолитографию – с магистральным самолетом. Вроде и та и другая технология перевозит пассажиров и грузы по воздуху, но в то же время между ними огромная разница. Если нужно перевезти несколько сотен человек через океан, то ваш выбор — магистральный лайнер. А если доставить смену нефтяников на морскую платформу, то самолет вам уже не поможет. Да, производство вертолетов никогда не достигнет масштабов производства самолетов и не будет с ними конкурировать. Но построить успешный бизнес на производстве вертолётов вполне возможно. Так что со временем многолучевая электронная литография займет свою нишу в полупроводниковом производстве, так же как вертолеты заняли свою в воздушном транспорте.
Комментарии (38)
saag
05.05.2018 09:05+1медленно, малый тираж, малая прибыль, либо стоить как самолет только по госзаказу
amartology
05.05.2018 11:28+7Ключ в словах «малый тираж». Иногда он очень нужен, как для прототипирования, так и для малой серии конечных изделий. Обычным способом это настолько дорого, что проще не делать ничего вообще.
И вопрос не в госзаказе, существует огромное количество применений, где нужна пара пластин или пара десятков пластин, а шаблоны стоят столько, что для того, чтобы их окупить, надо произвести минимум за пару тысяч пластин.
HappyLynx
05.05.2018 11:30> за один прием современная фотолитографическая установка печатает рисунок, соответствующий полю зрения, затем переходит на следующий участок, печатает такой же рисунок и т.д. На сегодняшний день максимальный размер матрицы составляет примерно 20 мм х 20 мм
Может в свете данного утверждения кто-нибудь мне пояснить, откуда в таком случае растут ноги у гонки за размером кремниевых пластин? Если засвечивается одномоментно только такой небольшой участок пластины, то какая разница, засвечивать N раз разные участки одной пластины или N/M участков на M последовательно подаваемых в установку пластинах?geisha
05.05.2018 13:07откуда в таком случае растут ноги у гонки за размером кремниевых пластин?
Я не слышал что прям гонятся за размером монокристаллического кремния, но, к примеру, размер имеет значение для фотовольтаики.
ukt
05.05.2018 19:51Сама пластина тоже недешевое удовольствие, её нужно сначала вырастить в виде такой здоровой заготовки, потом нарезать, подготовить. В довесок на большей пластине помещается больше чипов, т.е. операций остается столько же, а чипов больше выходит — для получения, скажем 100 чипов, на большей можно получить за один проход по всем процессам, а на пластине меньшего размера потребуется два прохода. В итоге получается стоимость одного условного изделия ниже. Скорее всего отсюда растут ноги.
Могу ошибаться.k61n
07.05.2018 09:59Не ошибаетесь, оборудование в полупроводниковой электронике стоит огромных денег. Увеличение размеров пластин и уменьшение размеров чипов это дорожная карта удешевления конечных устройств. Ждем 450мм пластины с года на год.
CorneliusAgrippa Автор
07.05.2018 10:18450 мм пластины могут и не появиться. Производители оборудования не хотят разрабатывать машины под 450 мм если рынок будет небольшим (огромные затраты на разработку оборудования тогда не окупятся). Раньше Интел продвигал идею 450 мм пластин и Самсунг вроде тоже был на это согласен (какая сейчас ситуация, я не знаю). Но для производителей оборудования Интел + Самсунг слишком маленький рынок, а остальные производители чипов не горят желанием переходить на 450 мм — это большие капиталовложения на оборудование, а с точки зрения экономики 300 мм пластины всех устраивают, цена чипов получается не такой большой.
k61n
07.05.2018 13:20Я склонен считать, что 450 мм пластины могут не появиться только лишь в случае плохого качества техпроцессов под пластины такого размера. Но вроде бы это не фундаментальная причина, и должна быть решена со временем. А производители оборудования совершенно не боятся тратить деньги на НИОКР. Они знают, что только инновации позволят им удержать свою долю рынка в будущем. Та же литография в экстримальном УФ. Это уже старая тема, и АСМЛ довольно долго пилит свой прототип, который пока что не соответствует требованиям промышленности. Ничего страшного.
black_semargl
07.05.2018 12:08Если вся пластина засвечивается единовременно — то это имеет смысл
Если же каждый чип на пластине рисуется лучом индивидуально — то тут особого смысла нет.k61n
07.05.2018 13:23В современных установках фотолитографии пластина не экспонируется целиком.
Вот, например, видео от АСМЛ
www.youtube.com/watch?v=jH6Urfqt_d4
qbertych
05.05.2018 12:48Хочется побольше цифр. Многолучевой — это сколько лучей (т.е. насколько быстрее однолучевого)? И сильно ли он дороже однолучевого?
dimitry78
07.05.2018 09:59И! кстати интересно: луч на одну площадку, или, «Я уже слышал о многолучевой литографии, правда с другим названием. На тот момент были готовы матрицы линз для серийного производства тестовых образцов микросхем» это копирование куска, или все-таки «сделать матрицу размером в 200мм»"?, допустим, кто-то делает микрухи хоть с 180Нм, воспроизведение параметров? ну что кондеры тупо держат заряд?
CorneliusAgrippa Автор
07.05.2018 10:19Добавил цифр в статью. Многолучевой — 13 000 лучей. Дороже однолучевого примерно на порядок.
oldbie
05.05.2018 18:12Есть вопрос. Как вы думаете может ли эта технология помочь разработчикам open hardware довести свое начинание до реальных применений? И как вы вообще видите перспективы open
sourcehardware. Сократится ли (при каких условиях?) огромный разрыв в возможностях независимых разработчиков/сообщесва и крупных компаний-разрабочиков? И речь конечно не о равенстве этих возможностей.
P.S. Оч. интрегующе выглядит и читать интересно. Отдельное и большое спасибо за статью из первых рук!rPman
06.05.2018 00:08Пока цена не опустится до нескольких баксов за чип.
Технология полагаю позволяет, но, боюсь, маркетинг — нет.oldbie
06.05.2018 01:24А что маркетинг? Где маркетинг, а где линукс, которому ничего не помешало стать дефакто стандартом в корп. секторе, который как раз умеет считать деньги и анализировать предложения. И этот-то бизнес по той же модели вполне может придать всей теме ускорения, ведь там не боятся проблем если это выгодно.
Но мне тоже кажется что существует целый ряд препятсвий. Самыми очевидными мне кажутся проблемы юредические.
P.S. пожалуй стоит уточнить: имелись в виду не простые кастомные чипы (например для обработки сигналов), а архитектуры сложных чипов общего назначения и конкретно RISC-V и OpenRISC.amartology
06.05.2018 10:44А в чем препятствия у RISC-V? Сейчас ими только ленивый не занимается.
И да, противопоставление "простых чипов для обработки сигналов" и "сложных чипов общего назначения" — это довольно смешно. В реальности обычно дело со сложностью чипов обстоит ровно наоборот. Например, простенький RISC-V стоит в дальнем углу видеокарты и занимается мониторингом, пока сложные графические ядра делают работу.
amartology
06.05.2018 01:13Независимое сообщество и сейчас очень много чего может сделать. А если говорить о таких проявлениях open hardware, как например RISC-V Foundation, то его поддерживает довольно большое количество компаний, в том числе лидеров рынка харда и софта. Не линукс, конечно, но масштаб уже сходный.
Стоимость прототипирования очень многих решений (например, на 180 нм, или на ПЛИС) уже сейчас весьма доступна небольшим командам.
Безмасочная литография должна будет помочь прототипированию на низких проектных нормах, которое сейчас доступно только при довольно больших инвестициях.
AVI-crak
05.05.2018 18:58Я уже слышал о многолучевой литографии, правда с другим названием. На тот момент были готовы матрицы линз для серийного производства тестовых образцов микросхем. И не просто готовы на бумаге, а в живую — металл и керамика. И даже что-то уже готовое показывали, но без самого процесса — на вид как обычная микросхема… А так-же была озвучена основная проблема — очень долгая экспозиция. Наверное не так — чертовски долгая экспозиция.
В чём продвижение технологии — чисто техническим языком? Ну если-бы смогли увеличить количество электронных линз до предельного количества — тогда да. Увеличить количество степеней свободы для каждого отдельного луча — тогда да. Придумать доступную для копирования сверхточную механику для всего этого хозяйства — тогда да.
И… Ничего этого нет…
А так- да. Перспективы, инновации, прогресс для малых партий — да это и так видно. Инструмента пока нет — только разговоры.stychos
05.05.2018 21:25Как и у большинства других технологий, самое главное продвижение — в пиаре. Главное ведь в любой технологии — не придумать, а продать потребителю.
AVI-crak
06.05.2018 00:14Главное чтобы не получилось как с печатью голограмм на офисном принтере. Там с переходом лазерных принтеров на новые технологии — стало возможным печатать линии толщиной меньше длинны красного цвета. Конечно не 100% качества, но для простых висящих буковок над бумагой — более чем достаточно. Естественно фирма решила продавать эту возможность как дополнительный бонус. До момента когда кто-то не догадался сделать это бесплатно.
После чего имеем — все современные лазерные принтеры теоретически могут печатать голографическое изображение, и при этом у всех принтеров запрет на аппаратном (механическом) уровне.oldbie
06.05.2018 01:15После чего имеем — все современные лазерные принтеры теоретически могут печатать голографическое изображение, и при этом у всех принтеров запрет на аппаратном (механическом) уровне.
Если бы можно было на обычных принтерах так печатать, то это следовало бы аппаратно запретить (в духе нашей думы, без сарказма). Ведь это может ипользоваться как защита от подделок например в деньгах. И если в России деньги защищены хорошо, то не факт что так же дела обстоят во всех странах мира. Да и не только деньги можно подделывать.
stychos
06.05.2018 03:20Интересно, не знал о таком. Есть где подробнее почитать?
AVI-crak
06.05.2018 10:46На тему голографии очень много информации, акцент на обратное восстановление.
Практически все новые лазерные принтеры имеют ультрафиолетовый лазер, потому-что это дешевле чем ик. У всех физически расстроена фокусировка луча.
ivbozhjev
07.05.2018 09:59А не обрушил ли МЭЛ цены на фотошаблоны, если начать использовать ее для их производства? тогда конкурировать с фотолитографией не получится, а нишей станет только производство фотошаблонов
Forget
07.05.2018 09:59CorneliusAgrippa самый главный вопрос — когда? После вашего поста про организацию производства в Москве новостей особо не появлялось. На сайтах тоже ничего особенного. Расскажите, на каком этапе находится создание промышленной установки? Чем сейчас занимается завод в Москве, неужели все два года на электронные линзы ушли?
Считаю что безмасочные технологии могут просто перевернуть рынок, особенно если получится быстро адаптировать их под производство радстойкой электроники — нормальные ПЛИСы у нас делать явно не хотят, возможно такая технология позволила бы делать радстойкие схемы значительно дешевле и быстрее, чем изготавливать маски для БМК. А это дало бы качественный рывок нашей космонавтике — сейчас без ПЛИС из США даже мирные научные миссии не могут запуститьCorneliusAgrippa Автор
07.05.2018 10:26Когда — хороший вопрос. Кажется, что уже вот-вот, и можно будет выпускать, но все время оказывается, что можно еще что-то улучшить, чтобы не выпускать на рынок сырой продукт, так как это может сказаться на репутации, и потом технологию никто покупать не будет. Поэтому голландцы, на мой взгляд, тянут резину до последнего — пока инвесторы дают деньги, они будут улучшать машину, но если инвесторы скажут «баста», то им придется начать продажи. С другой стороны, продукт можно совершенствовать до бесконечности. Когда случится выход на рынок? Может в следующем году, может в 20-м. В принципе, машина работает и выдает то, что она должна выдавать, основная проблема сейчас — низкая надежность и малое время наработки на отказ.
DmSting
07.05.2018 09:59Поясните, пожалуйста, про:
На сегодняшний день максимальный размер матрицы составляет примерно 20 мм х 20 мм, что
соответствует полю зрения сканеров
Вообще никак размер чипа не может превысить 400мм2? ЕМНИП, у nvidia были/есть чипы с большей площадью.
Или сканер не обязательно штампует одинаковую маску на каждый 20*20мм кусочек, а может подставить другую маску и с должной точностью их состыковать?CorneliusAgrippa Автор
07.05.2018 10:26В принципе, можно сшивать несколько полей сканера, но это не так просто, как может показаться на первый взгляд.
andrey_e_petrov
07.05.2018 10:00CorneliusAgrippa Денис, привет! =) Отличная статья! Нет идей расписать еще проблемные зоны текущего состояния multi e-beam'а (да и лито вообще)? Резист, стохастика и LER/LWR проблемы для эдванс нодов? Приписать комплементарный подход и все эти дела =) Думаю народу было бы тоже интересно!
Слышал, что Маппер вошел в совместную штуку (программа, наверное правильно) с Сокудо и универом в Синчу, мне кажется отличный шаг в направлении индустриализации технологии.
P.s. И светочувствительные матрицы больше, чем стандартная область засветки (field) мы можем печатать использую обычный сканнер =) Используется техника под названием stitching… там куча своих сложностей, но широко используемый метод и известный метод ;)
GarryC
07.05.2018 11:40Как всегда, когда речь идет о проектах «Роснано» «может принести… позволит… будет… станет… займет… обеспечит...». Интересно было бы посмотреть на глаголы совершенного вида в пресс-релизах, а то я следил за судьбой «Крокуса» и там все так и осталось в будущем.
amartology
07.05.2018 12:51+1Вообще «Крокус» работает, просто в совершенном виде у них не про то глаголы, что обещали. А про то все еще в будущем, но работа все еще идет.
k61n
07.05.2018 13:07Хочу прокомментриовать раздел про изготовление малых серий чипов.
Существуют же multi-project wafer shuttles, когда разные разработчики могут объединяться вместе и исполнять свои микросхемы на одной пластине, это существенно позволяет сократить затраты. Я не знаю за всю полупроводниковую индустрию, но в кремниевой фотонике, например, цены составляют порядка 2-5 тысяч евро за мм2. Но, правда, для фотоники подходят 200 мм фабрики.
Статья очень интересная, спасибо. Вообще, хотелось бы больше цифр, например, про стоимость оборудования (193нм тул от АСМЛ вроде бы стоит 27 млн евро, если не ошибаюсь, тогда сразу же понятно, почему дорого апгрейдить 200 мм фабрику, она просто никогда не окупит эти вложения), про то сколько времени занимает экспозиция целой пластины в тулах от АСМЛ и в случае с МЭЛ. Я подозреваю, что МЭЛ проигрывает очень сильно, есть опыт электронной литографии при работе с электронным микроскопом, но опять же, технология литографии в экстримальном ультрафиолете все еще находится на стадии прототипа и вообще не понятно когда и появится ли вообще в промышленности. Так что, мне кажется, можно не стесняться озвучивать эти цифры.CorneliusAgrippa Автор
07.05.2018 13:23ASML печатает где-то 100 пластин (300 мм) в час, МЭЛ будет печатать 10 пластин час (при использовании 13 000 лучей), на данный момент устойчиво работает со скоростью 1 пластина в час (используется 1300 лучей). Причем в будущем планируется модульная система — можно будет ставить в параллель несколько модулей с одним обслуживающим роботом — тогда производительность вырастет.
Сколько будет стоить МЭЛ, сказать сложно, ожидается дешевле, чем 193 нм. Цена EUV составляет $110 млн.
jaiprakash
Астрологи объявили неделю литографии.
Мне нравится)